江丰电子:“靶材”破垄断,“溅射”新征程
2017年6月27日 10:10

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江丰电子将实现溅射靶材产业链的完善,开启该领域的新征程,借助资本市场力量,实现国际一流半导体材料企业的宏伟目标。

【证券网】2017年6月15日,宁波江丰电子材料股份有限公司成功登陆A股市场,挂牌深交所创业板,股票代码300666。

江丰电子主营业务为高纯溅射靶材的研发、生产和销售,主要应用于半导体、平板显示器及太阳能电池等领域。公司主要产品为铝靶、钛靶、钽靶、钨钛靶等高纯溅射靶材,产品成功打入全球多个半导体芯片制造工厂,成为众多世界著名芯片公司的供应商 ,其中iPhone 7核心处理器A10芯片采用公司产品做部分芯片互连导线,这也是中国产品第一次应用在16nm FinFET+技术大规模集群。

溅射靶材是制备电子薄膜的关键材料,是溅射过程中的轰击目标。而溅射是物理气相沉积技术(PVD)中的一种,是制备电子薄膜材料的主要技术之一,其用高压加速气态离子轰击靶材,将靶材的原子一个个溅击出来,并使被溅击出来的材质(通常为铝、钛或其合金)如雪片般以薄膜的形式沉积到目标基板(硅片)上。制程反应室内部的高温与高真空环境,可使这些金属原子结成晶粒,再透过微影图案化与蚀刻,最终一层层金属导线,而芯片的数据传输全靠这些金属导线。溅射靶材整个产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节,而这其中,靶材制造和溅射镀膜环节是整个溅射靶材产业链中的关键环节。

江丰电子创建于2005年,是国家科技部、发改委及工信部重点扶植的一家高新技术企业,是目前国内技术领先的超高纯溅射靶材生产商,专门从事超大规模集成电路芯片制造用超高纯金属材料及溅射靶材的研发生产,填补了国内的技术空白。江丰电子生产的这种高纯度溅射靶材,是半导体芯片制造中的关键材料。最核心的是它的纯度。一般的金属能达到99.8的纯度,而制作芯片需要的金属纯度是99.999。目前,江丰电子生产的高纯钛金属,已经达到美国、日本的产品性能,完全满足了芯片制造所需要的纯度,再也不受制于人,打破了日美在这一战略金属材料领域的垄断。

江丰电子此次成功上市后,拟投入6686.78万募投资金用于年产400吨平板显示器用钼溅射靶材坯料,建设周期两年,总投资1.09亿,预计达产后将增加年营收2.36亿。目前钼溅射靶材主要应用于平板显示器、薄膜太阳能光伏电池行业。 拟投入4000万募投资金用于年产300 吨电子级超高纯铝生产项目, 建设周期两年,达产后预计新增营收(含税)8,100万元。

未来募投项目的达产将使公司向上游产业链拓展,实现高纯铜、高纯铝以及钨钼材料的自给,大幅降原材料采购成本,江丰电子将实现溅射靶材产业链的完善,开启该领域的新征程,借助资本市场力量,实现国际一流半导体材料企业的宏伟目标。

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